水処理・環境負荷低減技術の電解専門メーカー クロリンエンジニアズ株式会社

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電解オゾン水製造装置

特長

写真：電解オゾン水製造装置
  • 放電式よりクリーンな超純水電解方式によるオゾン水製造原理採用
  • オゾン水100mg/L以上の高濃度、オゾン水流量80 L/min. 以上も対応可能
  • 可能。オゾン水濃度、 流量はお客様のニーズに合わせて対応可能
  • バッチ式洗浄機には高濃度/大流量、枚葉式洗浄機には高濃度/小流量、連続シャワー式には低濃度/大流量を推奨
  • コンパクトな省スペース設計
  • 高圧オゾン発生器とブースターポンプの組合わせによる高吐出圧実現
  • 運転開始より3分で急速立上げ実現

用途

  1. シリコンウエハ製造分野：エピ前洗浄、イオン注入前洗浄、平坦化後洗浄、純水殺菌
  2. 半導体製造分野：ウエハ受入洗浄、成膜前洗浄、レジスト残渣除去、レジスト除去、純水ライン殺菌、CMP後洗浄
  3. LCD製造分野：ガラス基板受入洗浄、成膜前洗浄、純水ライン殺菌

電解式オゾン水製造装置プロセス

図：電解オゾン水製造装置プロセス

標準モデルデータ

機種名 オゾン
水濃度
（mg/L）		 オゾン
水流量
（L/min.）		 外形寸法
（巾×奥行×高さmｍ）		 質量
（kg）		 電源容量
（kVA）		 炭酸ガス添加
POW-2010-S 20 10 900×1,000×1,900 650 11.9(3φAC200V) 有/無
POW-6005-S-C 60 5 900×1,000×1,900 700 12(3φAC200V) 有
POW-10005-SP-C 100 5 1,300×1,300×1,900 1,200 17.1(3φAC200V) 有

ユーティリティ

  1. 電力（電圧、周波数の確認）
  2. 純水（17MΩ・cm以上の超純水。水温25℃以下。含有過酸化水素濃度50ppb以下）
  3. 冷却水（23℃±3℃）
  4. 制御エアー（0.5～0.7MPa）
  5. 熱排気ダクト
  6. 排水ライン（自然落下または強制排出）

オプション

  1. オゾン水昇圧ユニット
  2. 薬液注入ユニット
  3. 炭酸ガス添加ユニット
  4. 節水ユニット

型式記号

型式記号サンプル
  1. 電解オゾン水製造装置（POW）
  2. オゾン水濃度 例：10mg/L→10、20mg/L→20、60mg/L→60
  3. オゾン水流量 例：10L/min.→10、20L/min.→20、5L/min.→05
  4. 半導体製造装置グレード（S）
  5. 無印→標準、P→ブースターポンプ内蔵

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