水処理・環境負荷低減技術の電解専門メーカー クロリンエンジニアズ株式会社

  1. トップページ
  2. 製品・技術情報
  3. 機能水
  4. 電解水素水製造装置

電解水素水製造装置

特長

写真：電解水素水製造装置
  • 超純水を原料としたクリーンな水素水を製造。常温常圧下で飽和水素濃度1.0mg/L以上を達成
  • オンサイトで必要な時に必要な量の安定した濃度の高純度水素水を供給
  • 発生圧力1MPa以下の高圧ガス取締法に該当しない安全設計
  • 排水素ガスは触媒で分解、万一の水素漏れもガス検知器で検知し、装置を自動停止
  • ORP, pH 制御用薬液注入ポンプ搭載可能

用途

  1. シリコンウエハ製造分野：平坦化洗浄
  2. 半導体製造分野：ウエハ受入洗浄、成膜前洗浄、CMP後洗浄
  3. LCＤ製造分野：ガラス基板受入洗浄、成膜前洗浄
  4. ハードディスク製造分野：ガラス基板受入洗浄、成膜前洗浄

電解水素水製造装置プロセス

図：電解水素水製造装置プロセス

装置使用

機種名 水素ガス純度
（％）		 水素ガス発生量
（g/時）		 外形寸法
（巾×奥行×高さmｍ）		 質量
（kg）		 電源容量
（kVA）
PHG-60-S 4N ＞5.4 500×600×600 120 1.5(1φAC200V)
PHG-120-S 4N ＞10.8 500×600×800 140 3.0(1φAC200V)

ユーティリティ

  1. 電力（電圧、周波数の確認）
  2. 純水（17MΩ・cm以上の超純水。水温25℃以下。溶存酸素濃度500ppb以下）
  3. 冷却水（23℃±3℃）
  4. 制御エアー（0.5～0.7MPa）
  5. 熱排気ダクト
  6. 排水ライン（自然落下）

オプション

  1. 内蔵薬液タンク（アルカリ用）
  2. 内蔵薬液注入ポンプ（アルカリ用）
  3. 内蔵自動薬液希釈ユニット（アルカリ用）
  4. 自動薬液濃度調整ユニット（アルカリ用）
  5. 原料水脱気ユニット
  6. 集中制御機能（大量の水素水が必要な場合には標準機を組合わせて集中制御する設計を行います）

型式記号

型式記号サンプル
  1. 電解水素水製造装置（PHW）
  2. 水素水流量 例：10L/min.→600L/hr→600
  3. 半導体製造装置グレード（S）
  4. 無印→標準、P→ブースターポンプ内蔵

ページのトップへ